光電玻璃
光學玻璃減薄
正達具備化學蝕刻及物理拋光兩種玻璃減薄技術及產能，可依據客戶不同的產品與需求，調配應用，以達到最佳品質及效率的產出。
製程簡介
化學蝕刻
化學蝕刻為最具效率的薄化製程，將玻璃浸入蝕刻液中，可在短時間內將玻璃厚度薄化。
正達的薄化技術可將5.3代（1,200mm x 1,300mm）尺寸的TFT LCD Cell基板，由厚度1.4mm減薄至0.4mm。由於TFT LCD Cell基板包括TFT Array及彩色濾光片兩片玻璃，因此單一片玻璃厚度均少於0.2mm。
用於單片玻璃的薄化，則可將6代 ( 1,850mm x 1,500mm ) 尺寸玻璃減薄至0.4mm。
物理拋光
物理拋光製程主要用於優化玻璃表面品質，磨平玻璃表面細微缺陷，使玻璃達到符合光學級要求的平坦度。
由於拋光技術應用廣泛，包括大中小尺寸TFT LCD面板、觸控感測玻璃、保護玻璃，甚至半導體光罩等，均可能需要使用到拋光製程。
產品應用
TFT LCD Cell
彩色濾光片
觸控感測玻璃
保護玻璃
半導體光罩